供應商：日立科學儀器（北京）有限公司

產品簡介日立離子濺射儀 MC1000日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術公司自行設計制造，針對掃描電鏡的精細高端需求而設計，適合微觀結構較復雜的樣品，尤其適合于場發射掃描電鏡的高倍率觀測應用。主要特點：1.      操作方便且有記憶功能，chuangLCD觸摸屏控制技術，可存儲五種處理方案；2.      通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，從而使鍍層更均勻；3. 

供應商：北京中科科儀股份有限公司

儀器簡介：本儀器主要適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣必備的儀器。技術指標： 玻璃處理室：∮100毫米，高度130毫米 試樣臺尺寸：∮40毫米可同時放6個樣品杯 金靶尺寸：∮58毫米 真空系統：直聯旋片真空泵1升/秒 真空檢測：皮氏計 真空保護：20Pa配有微量充氣閥調節工作真空 工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣，配有氬氣專用進氣口和微量充氣調節 可以濺射鐵、鈷、鉺

供應商：北京博遠微納科技有限公司

ETD-2000C既有濺射功能，同時也具備熱蒸發功能，一機多用，轉換方便，經濟實惠。

供應商：日立科學儀器（北京）有限公司

產品簡介日立離子濺射儀 MC1000日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術公司自行設計制造，針對掃描電鏡的精細高端需求而設計，適合微觀結構較復雜的樣品，尤其適合于場發射掃描電鏡的高倍率觀測應用。主要特點：1.      操作方便且有記憶功能，chuangLCD觸摸屏控制技術，可存儲五種處理方案；2.      通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，從而使鍍層更均勻；3. 

供應商：日立科學儀器（北京）有限公司

Q150R ES PLUS標配可互換的濺射插入頭及碳絲蒸鍍插入頭，集兩種功能于一體。濺射插入頭裝有磁控系統，可使濺射處理期間產生的高能電子偏轉，從而遠離樣品。這有助于創建必要的冷濺射環境以消除熱影響，且確保濺射成膜中的精細顆粒結構；碳絲蒸鍍插入頭采用功能強大、無紋波直流電源，蒸發電流可控，確?？芍貜偷奶颊翦兡?。自動蒸發源擋板可在鍍膜循環的除氣期間保護樣品?？焖?、易更換的3.05mm直徑碳棒蒸發插入頭作為可選，用于需要減慢速度但可控性更好的蒸發過程。

供應商：日立科學儀器（北京）有限公司

Q150T ES PLUS集成了離子濺射和熱蒸鍍兩種真空鍍膜方式。濺射插入頭裝有磁控系統，可使濺射處理期間產生的高能電子偏轉，從而遠離樣品，這有助于創建必要的冷濺射環境以消除熱影響，且確保濺射成膜中的精細顆粒結構；碳棒蒸發插入頭采用穩定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發方式，確保源自碳棒或碳絲的可重復蒸碳。

供應商：沈陽科晶自動化設備有限公司

VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀配備有三個靶槍和三個電源，一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想

供應商：沈陽科晶自動化設備有限公司

VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。單靶磁控濺射儀配備有一個靶槍，可選擇強磁靶或弱磁靶，弱磁靶用于非導磁材料的濺射鍍膜，強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。1、一個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導電性

供應商：沈陽科晶自動化設備有限公司

適用于鍍膜設備的配套使用不銹鋼材質，需要根據客戶的實驗要求加工定制。

供應商：沈陽科晶自動化設備有限公司

高真空濺射可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。1、真空度高。 2、可制備多種薄膜，金屬、半導體、絕緣體等，應用廣泛。 3、體積小，操作簡便。 4、清理安裝便捷。 5、控制可選一體化觸摸屏控制 產品名稱 GSL-CKJS-450-B1磁控濺射 安裝條件 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環

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高真空濺射可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。1、真空度高。 2、可制備多種薄膜，金屬、半導體、絕緣體等，應用廣泛。 3、體積小，操作簡便。 4、清理安裝便捷。 5、控制可選一體化觸摸屏控制 產品名稱 GSL-CKJS-450-B1磁控濺射 安裝條件 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環

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VGB-600-3HD薄膜電池制備系統可在手套箱內進行實驗操作，用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該系統配置三個靶槍，一個配套射頻電源通過轉換開關可以分別連接至任一靶頭，用于各類靶材的濺射鍍膜。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究薄膜電池、固態電解質及OLED等，與普通磁控濺射相比可以做Li靶材及鋰基材料靶材的鍍膜實驗，是新能源

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VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源，一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想

供應商：沈陽科晶自動化設備有限公司

VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD雙靶磁控濺射儀配備有一個靶槍，可選擇強磁靶或弱磁靶，弱磁靶用于非導磁材料的濺射鍍膜，強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。1、可選一個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射

供應商：沈陽科晶自動化設備有限公司

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。1、配置三個靶槍，一個配套射頻電源用

供應商：沈陽科晶自動化設備有限公司

GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達50mm，鍍膜厚度可達300?，特別適用于SEM樣品表面的鍍膜。GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表，用以指示、監控儀器狀態； 特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象；陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經久耐用。GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀體積小，操作

供應商：沈陽科晶自動化設備有限公司

GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據二極（DC）直流濺射原理（直流二極濺射鍍膜是指在真空環境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應，使得靶材原子或分子從固體表面射出，在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理 氣相沉積（PVD）制備薄膜技術的一種。）設計而成的簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀特別之處是在一個真空室內安裝了三個靶，旋轉樣品臺可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。該設備

供應商：沈陽科晶自動化設備有限公司

VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子薄膜濺射儀（直流普通型），控制面板采用觸摸屏模式，基片極限尺寸為2″，放置樣品的直徑為?50mm，加熱溫度達500℃。VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀可濺射金、銀、銅三種靶材，不可以濺射輕金屬和碳。本機采用旋轉式樣品臺，能夠依次在同一樣品上涂覆三層薄膜，適用于實驗室制備復膜的樣品。VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀采用PLC控制面板對設備進行控制，操作方便直觀。該機設備小巧，占用實驗室空間少，操作簡單，應用廣泛。因此被廣泛應用于各大高

供應商：日立科學儀器（北京）有限公司

產品簡介Q150V Plus超高真空離子濺射/熱蒸發一體化鍍膜儀Q150V Plus為高真空鍍膜應用做了優化設計，限真空度可達1x10-6mbar。結合潘寧規和皮拉尼規的使用，可以使易被氧化的金屬形成超小尺寸的顆粒，以實現高分辨率成像。高真空腔室也可以將氮氣，氧氣和水完全除去，避免在濺射過程中因化學反應導致雜質和缺陷形成。較低的濺射速率還可獲得高純度和高密度的無定型碳膜。產品特點1. 限真空度可達1x10-6mbar2. 新的LED狀態指示燈3. 16G內存可以存儲1000個以上條件設置記錄

供應商：深圳市藍星宇電子科技有限公司

日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000 。采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設定加工條件 ?？商幚磔^厚或較大的樣品(選配件) 。記憶功能可存儲常用加工條件

供應商：北京中科科儀股份有限公司

儀器簡介：本儀器主要適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣必備的儀器。技術指標： 玻璃處理室：∮100毫米，高度130毫米 試樣臺尺寸：∮40毫米可同時放6個樣品杯 金靶尺寸：∮58毫米 真空系統：直聯旋片真空泵1升/秒 真空檢測：皮氏計 真空保護：20Pa配有微量充氣閥調節工作真空 工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣，配有氬氣專用進氣口和微量充氣調節 可以濺射鐵、鈷、鉺

供應商：深圳市藍星宇電子科技有限公司

英國Cressinglon 自動離子濺射儀 108AUTO 108AUTO 自動離子濺射儀，是一款結構緊湊的桌上型鍍膜系統，特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。

供應商：深圳市藍星宇電子科技有限公司

美國TED PELLA 208HR高分辨離子濺射儀-適用于場發射掃描電鏡，208HR高分辨離子濺射儀為場發射掃描電鏡應用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。 場發射掃描電鏡觀察時，樣品需鍍上極其薄、無細晶且均勻的膜層以消除電荷積累，并提高低密度材料的對比度。為了將細晶的尺寸減小到zui小程度，208HR提供了一系列的鍍膜材料，并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。

供應商：深圳市藍星宇電子科技有限公司

· 自動的換氣與泄氣功能，可以得到一致的膜厚，和zui佳的導電噴鍍效果。 · 通過GX低壓直流磁控頭進行冷態精細的噴鍍過程，避免樣品表面受損。 · 操作容易快捷，可全自動或手動進行噴鍍操作，控制的參數包括自動放氣以及氬氣換氣控制。

供應商：上海愛儀通網絡科技有限公司

1） 全新升級的用戶界面：電容式觸摸屏靈敏度高，更易觸控使用 用戶界面軟件已廣泛更新，使用現代智能手機界面技術 上下文相關的全面幫助頁面 USB接口可輕松進行軟件更新，也可將鍍膜程序文件備份/復制到U盤 log文件可通過USB端口導出，文件格式為.csv,便于在Exce或類似軟件中分析， log文件包括日期、時間和工作參數。 16GB的閃存可儲存超過1000條鍍膜程序；雙核ARM處理器，可實現快速響應的顯示。 2） 允許多用戶輸入和儲存鍍膜參數程序，新功能可根據近期的使用情況來排列每個用戶的程序。 3） 智能邏輯系統自動識別插入頭.并顯示相應的操作設置和控制1c 4） 系統提示用戶確認靶材，然后自動為該材料選擇適當的參數。 5） 直觀的軟件允許生手或偶用者快速輸入和存儲其處理參數。為方便起見，系統已存儲一些典型的濺射和鍍碳程 序，也允許用戶創建自己的操作程序。 6） 如果軟件檢測到在一段時間內無法達到一定真空，在真空泄漏的情況下會終止程序，以防真空泵過熱。

供應商：上海愛儀通網絡科技有限公司

RQC-2S全自動磁控離子濺射儀低氣壓下氣體的輝光放電現象:?  靶材后有永磁鐵?  靶材上施加電壓為-400 ~ -600V，樣品臺接地?  絕大部分電子和負離子在電場和磁場的共同作用下，做螺旋線運動， 單個電子電離的氣體分子大大多于直流，因此，在較好的真空、較  低的電壓下即可獲得較大的電流;?  在磁場在作用下，絕大部分電子和部分負離子落在靶材附近，無法 到達樣品臺，對樣品基本沒有熱損傷工作特點:  濺射電流與

供應商：上海愛儀通網絡科技有限公司

RQC-1S 離子濺射儀詳細參數采用單片機作為處理器，具有自主知識產權，擴展性好;5 英寸觸摸操作液晶顯示屏，分辨率為 800×480，全數字顯示。2.1 可設定:(1)濺射電流;(2)濺射時間;(3)屏幕亮度等參數;2.2 可顯示:(1)濺射電流;(2)濺射剩余時間;(3)工作真空度;(4)靶材累 計使用時間;(5)設備累計使用時間等參數。濺射電流:3-30mA 連續可調，最小步長為 1mA;濺射時長:1-999s 連續可調，最小步長為 1s;工作真空:實時顯示當前工作真空度，精度為 0.1Pa濺射靶材

供應商：北京歐波同光學技術有限公司

該產品安全性高，觸屏控制，過程參數可視，內置操作向導，操作簡單方便。

供應商：北京歐波同光學技術有限公司

KAS-2000F離子濺射是布萊特公司針對SEM/TEM開發出的產品，它可以對不導電樣品進行噴鍍，使導電性不理想的樣品也能夠在SEM/TEM中進行觀測。

供應商：北京歐波同光學技術有限公司

依據二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調整控制器、微型真空氣閥在工作時結合內部自動控制電路控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。

供應商：北京歐波同光學技術有限公司

該產品自動真空控制，條件設置簡單，可以實現快速抽真空（<2min），對樣品進行鍍膜處理，完成鍍膜后可以自動卸載真空。同時，樣品高度的調節也十分方便。

供應商：北京歐波同光學技術有限公司

VacCoat鍍膜儀，可提供晶粒尺寸很細的高質量均勻薄膜，十分適用于高分辨率和高質量樣品的表征。

供應商：北京和同創業科技有限責任公司

儀器簡介： 本儀器主要適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍膜導電膜(金膜),儀器操作簡單方便, 是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣必備的儀器。技術參數：1.靶（上部電極）：材料：金，直徑：50mm，厚度：0.1mm　純度：99.999%2、真空室：直徑：160mm，高：110mm3.樣品臺（下部電極）：濺射面積：直徑：50mm4．工作真空： 2×10-110-1 mbar5.離子電流表：最大電流：50mA6.計時器：根據濺射習慣設定單次濺射時間。7.最高電壓：-1600DVC8.機械泵:2升/每

供應商：北京和同創業科技有限責任公司

一、產品應用：JS-1600M型磁控濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的，最簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。二、配置及技術指標：1.本系統裝配了水冷卻磁控靶，靶面直徑為50mm2.主機規格：L360mm*W300mm*H380mm3.靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.1mm4.真空樣品室： 直徑：160mm，高：120mm5.濺射面積： Ф50mm 6.真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar7.離子

供應商：北京裕隆時代科技有限公司

產品描述LJ-16小型離子濺射儀由裕隆時代公司精心設計制造，是專用于掃描電鏡（SEM）的樣品噴金鍍膜系統，能夠極為有效的提高電鏡觀測效果。產品特點： 操作簡便，性能優越，質量穩定，功能豐富相比上一代產品，LJ-16小型離子濺射儀有大幅度的性能提升：◆換裝新一代真空泵，大幅降低儀器噪音和廢氣污染◆配置高質量真空系統和微調閥，結合自動控制電路，預置真空和電流，無需反復調節?？勺赃x所需電離氣體（空氣或氬氣），以獲得理想的鍍膜效果?！衾饨浅尚凸に囍瞥筛邚姸炔Ａ?，防止輕易磕碰損壞和“崩邊”?！魳伺洇?8mm x

供應商：北京意力博通技術發展有限公司

儀器簡介：ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的，最簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。同時增加了熱蒸發附件，具有濺射和蒸發兩種功能。滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導體材料實驗電極制作。技術參數：配置參數如下：- 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H） - 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H） - 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H） - 樣品臺： 50mm (D) - 操作真空： 4×10-1mba