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反應式離子蝕刻機 性能特點 Capability Features: 用于失效分析的剝層分析解決方案群，世界反應式離子蝕刻機，物理沉移系統，原子層化學氣相沉積系統. RIE/PE and RIE-ICP FA system 這些靈活的失效分析工具可以實現從鈍化層的去除到各項異性的氧化物的去除，從小管芯或已封裝的器件到300mm直徑的晶片整個范圍的工藝. 去除氮化物鈍化層后刻蝕金屬間介質后四層金屬暴露 金屬間介質后的失效分析

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儀器簡介：ESPion高級朗繆爾探針（AdvancedLangmuirProbesforElectricalPlasmaCharacterisation）可快速、可靠、精確地進行等離子體診斷，是zuixianjin可靠的朗繆爾探針（LangmuirProbe）。 技術參數：應用： 蝕刻/沉積/ 清潔等離子體 脈沖等離子體操作 離子密度 (Ni & Gi) 電子溫度(Te) 電子能量分布(E

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Diener電鏡專用等離子清洗機用途： 主要用于除去透射電鏡樣品及樣品桿上的污染，防止碳沉積以降低圖像分辨率及對樣品微區分析造成誤判。還可以利用該儀器清洗各類光闌等電子顯微鏡配件。特別適用于場發射掃描電鏡和場發射透射電鏡。用這種低能高頻等離子體清洗樣品表面，不會改變樣品元素成份和表面結構特征。主要技術參數：1. 可對多孔碳膜進行高效且無破壞的清洗，提高樣品在低電壓下的成像能力，在化學微量分析時提高其精度2. 無油真空系統：泵體部分由多級隔膜泵和超凈音分子泵組成，在保證真空度的同時，可在兩分鐘之內達到抽真空

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Diener,PlasmBeam,PlasmBeam PC,PlasmBeam大氣壓等離子清洗機/等離子表面處理PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUOApplications:RubberElectronicPlasticsCables-Tules效果： PlasmaBeam清洗過的區域，噴水后沒有殘留水滴。底材：鋁底材：塑料技術參數：型號PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUO發生器頻率與功率20kHz,300W20kHz,300W20kHz,6

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Diener,PlasmBeam,PlasmBeam PC,PlasmBeam大氣壓等離子清洗機/等離子表面處理PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUOApplications:RubberElectronicPlasticsCables-Tules效果： PlasmaBeam清洗過的區域，噴水后沒有殘留水滴。底材：鋁底材：塑料技術參數：型號PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUO發生器頻率與功率20kHz,300W20kHz,300W20kHz

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Diener electronic 公司世界首chuangDiener electronic 公司推出了第一臺適合牙科種植專家和牙科技師使用的低壓等離子系統。牙科技術現在還沒有粘合促進劑或者底漆僅在原子水平上進行清洗、活化、蝕刻和涂層。用 FEMTO-PCCE-系統直接在實驗室中進行等離子體預處理是極為有效和環保的。等離子體技術被認為是極為環保的，而且成本較低，適合用來替代化學粘合促進劑，其某些工藝對于牙科技術部件的預處理而言是至關重要的。表面蝕刻作為所有粘合劑和復合面的**保留基層，具有極好的潤濕性，而

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Diener等離子表面處理設備 德國原裝進口德國Diener是專門生產經濟、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設備的公司, 是世界上材料處理低溫等離子體設備的市場和技術**者。Diener采用先進的集成化技術開發生產射頻頻率為40KHz 、80KHz、13.56MHz，以及代表等離子應用zuixianjin技術的2.45GHz的等離子清洗機。目前設備廣泛應用于：等離子清洗、刻蝕、灰化、涂鍍和表面處理。產品主要分布在真空電子、LED、太陽能光伏、集成電路、生命科學、半導體科研、半導體封裝、芯片制造、MEMS器件等

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Technische Daten PlasmaBeamMini1.外尺寸： B 350 mm, H 166 mm, T 300 mm, 重量. 10 kg2. 噴頭直徑.φ25 mm, L 150 mm, 重量. 0.5 kg,線纜 1.5 m3. 發生器：2,45 GHz/8 W4.反應氣體：單路Ar 5. 電源：單相100~240V，1.5A 上海爾迪儀器科技有限公司 ZGdu家代理

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德國diener等離子表面處理設備特點： 等離子清洗機清洗效果好，效率高，應用范圍廣。 對清洗樣品，沒有任何材質、外觀尺寸等要求。 等離子清洗過程中，溫升很小，基本可達到常溫處理。 射頻功率無極連續可調。 GX的特制電極，是產生均勻等離子體的保證。 特制電極和托盤結構，可充分利用真空艙體內部空間，使處理效率zuida化，同時也可保證樣品可得到全面有效的清洗。 特有的過載、短路和過熱保護電路，可保證射頻電源的穩定和安全。 設備整體模塊化設計，安裝與維護極為簡單。

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聚對二甲苯是聚對二甲苯聚合物基團的簡稱。聚合物由被不同物質取代的對二甲苯組成。涂層的基礎是二聚體。這是由兩個相同的亞基，即所謂的單體組成的分子復合物。

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Diener等離子表面處理設備 德國原裝進口德國Diener是專門生產經濟、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設備的公司, 是世界上材料處理低溫等離子體設備的市場和技術**者。Diener采用先進的集成化技術開發生產射頻頻率為40KHz 、80KHz、13.56MHz，以及代表等離子應用zuixianjin技術的2.45GHz的等離子清洗機。目前設備廣泛應用于：等離子清洗、刻蝕、灰化、涂鍍和表面處理。產品主要分布在真空電子、LED、太陽能光伏、集成電路、生命科學、半導體科研、半導體封裝、芯片制造、MEMS器件等

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Diener Tetra185 Plasma PCB DesmearingPCB等離子除膠機 Diener Tetra185接受不同規格艙體及工藝定制循環時間為15分鐘和90分鐘之間同時可以處理7塊PCB板,處理最大尺寸為510×610mm 應用領域：- 除污雜材料- 聚酰亞胺箔加壓前的蝕刻與活化，以便它能夠提高粘接強度- 表面清潔- 金屬表面粘接和焊接前的活化 去除膠渣的材料類型：- FR4standard (for example Panasonic MC-100MS/EX)-Modified F

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反應式離子蝕刻機 性能特點 Capability Features: 用于失效分析的剝層分析解決方案群，世界反應式離子蝕刻機，物理沉移系統，原子層化學氣相沉積系統. RIE/PE and RIE-ICP FA system 這些靈活的失效分析工具可以實現從鈍化層的去除到各項異性的氧化物的去除，從小管芯或已封裝的器件到300mm直徑的晶片整個范圍的工藝. 去除氮化物鈍化層后刻蝕金屬間介質后四層金屬暴露 金屬間介質后的失效分析

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Femto Science等離子清洗機COVANCE產品特點及適用領域：1、可有效去除工作表面上的有機污染物，也可用于表面改性?！耙子谑褂谩?，具有簡單的結構，適用于各種等離子工藝，如清潔，增強親水性和粘合性， 使表面疏水等。2、納米生物科學與醫療儀器3、實驗室芯片研究4、氨基等離子體嫁接 5、葡萄糖傳感器，蛋白質芯片...6、粘接PDMS，清潔眼鏡7、親水/疏水塑料8、微量血漿，酶反應前的預處理...9、洗有機污染物 10、涂裝和涂漆前的活化11、硅粘合前活化12、棉的疏水處理13、增強粘合性，增強功能.

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氬離子拋光系統是一個用于樣品的截面制備及平面拋光的桌面型制樣設備，以便樣品在SEM及其它設備上進行檢測分析?？衫肐lionII進行拋光加工的材料種類十分廣泛，包括由多元素組成的試樣，以及具有不同的機械硬度、尺寸和物理特性的合金、半導體材料、聚合物和礦物等

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Femto Science等離子清洗槍      等離子清洗槍是一種全新的高科等離子表面處理儀，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果、或者進行表面改性及滅菌，還可以應用于傷口、組織器官、3D圖案等。相對于等離子清洗機不僅使用廣泛，而且具有小巧輕便、使用便捷、價格低廉的特點。技術規格材料：塑料，金屬（內部）電源：DC 5V(2A)容量：1800mAh充電時間：2h時長：40min氣體：Ar氣體導管：OD.4mm管尺寸：52(W) x 76(D) x 270(H) m

供應商：北京歐屹科技有限公司

NDS UV解膠機NDS312 UV解膠機NDS UV解膠機簡介：UV解膠機適合6/8/12寸芯片整片照射使用，主體部分為不銹鋼、鋁合金制作，質量可靠，性能穩定;貼膜精度高且穩定；操作簡單，易懂易會。NDS UV解膠機特點：1)小巧的桌面式設計2)采用液晶觸摸屏一鍵式全自動完成解膠過程3)LED冷光源代替了傳統的高壓汞燈,結果試驗認證,4)使用壽命比普通汞燈壽命長10倍以上5)LED冷光源與汞燈組成的光源相比,更能實現穩定性,均勻性的照射6)LED冷光源安全性高,熱量小,功耗低7)設備開門關門時,LED冷

供應商：上海巨納科技有限公司

國內的電感耦合等離子體都是基于中頻13.56MHz的電源發生器，等離子體密度較低，而且是螺旋管式，主要用于等離子體刻蝕，不適宜用于沉積高質量薄膜。巨納集團NextCVD系列多功能寬密度等離子體CVD（ICP-LP-PE-CVD）結合了電感耦合和電容耦合輝光放電的優點，可在寬密度工藝范圍（109-1013 cm-3)實現穩定的等離子體輔助CVD，具有優良的材料處理性能和廣泛的應用范圍，是目前全球功能大的等離子體CVD系統。NextCVD 的原創性高密度低頻平板式電感耦合等離子體系統在國內duyi無二。頻率可

供應商：科睿設備有限公司

※ 應用于合成纖維、天然織物、復合材料、電子組件、玻璃 鋼、鋁合金金屬、塑料、玻璃、木材、陶瓷和粉末等材料 領域。實現表面活化表面能、印刷和膠粘、殺菌和消毒等 功能。 ※ 等離子功率密度高。 ※ 產生<50°C冷等離子體。 ※ 直接放電，低輸入電壓，高輸出電壓。 ※ 手持操作。 ※ 適用于幾乎所有材料。

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簡單易用的等離子體——“MyPL”

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機器人工業化設計中使用的wan美定制單元：10米線便可輕松集成至各種系統中的PS2000高壓單元和PB3等離子體發生器。

供應商：科睿設備有限公司

基于壓電變壓器直接放電，同時在元件的輸出端直接產生冷等離子，等離子通過電離空氣或氣體來形成。

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基于壓電變壓器直接放電，同時在元件的輸出端直接產生冷等離子，等離子通過電離空氣或氣體來形成。

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EMS1050 低溫灰化儀應用領域：l  生物芯片領域l  醫用材料、光學材料研究l  電子半導體領域l  高分子材料研究l  電化學、高端零部件處理l  有機材料的灰化、刻蝕 儀器性能：l  自動調頻高頻發生器l  內置旋轉真空泵l  此系統通常使用氧及氬的混合氣體，氧去除有機物質（碳氫化合物），氬對樣品表面進行刻蝕l  低溫等離子灰化、刻蝕、清洗 (0-150 watts RF) l 

供應商：上海巨納科技有限公司

電感耦合等離子體系統可以產生高密度（1012~1013 cm-3）的電感耦合等離子體，可以施加頻率從0.5~13.56 MHz（低頻到中頻）的射頻電源，外加功率變化范圍是0~5000W。主要用于等離子體輔助化學氣相沉積（CVD）、薄膜制備與處理、表面改性、刻蝕與晶片清洗等。電感耦合等離子體系統MPDEX21/21-2主要由以下幾個部分組成(1)平板式電感耦合等離子體源結合電源發生器和射頻匹配網絡可以產生高密度（1012~1013cm-3）的電感耦合等離子體，可以施加頻率從0.4~13.56 MHz（低頻到

供應商：合肥科晶材料技術有限公司

產品型號：GSL1100X-PJF 等離子表面處理儀 產品簡介：GSL1100X-PJF 等離子表面處理儀是一種緊湊的大氣離子表面處理噴射系統，主要由射頻發生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件下，迅速活化和清理材料表面。例如單晶片、光學元件、塑料等廣泛的材料。 為了獲得高質量的外延薄膜或者光學涂層，預先進行表面處理可以得到顯著的效果。 主要特點： 操作簡單、安全，高速處理物件表面； 不需要真空、不需要腔室； 手提式、可以現場使

供應商：北京亞科晨旭科技有限公司

德國Centrotherm公司是國際主流的半導體設備供應商，尤其在高溫設備領域。Centrotherm Oxidator 150 經過專業的研發, 能夠滿足 SiC 圓片的高溫氧化工藝; 同時亦可用于常規的硅圓片的氧化。Centrotherm Oxidator 150 卓越的反應腔具有性能高、占地小和生產成本低等特點，為客戶提供zui高的工藝靈活度, 同時能夠保證有毒氣體的安全使用。

供應商：北京亞科晨旭科技有限公司

Centrotherm Activator 150 高溫爐設計用于SiC或GaN器件注入后退火。Centrotherm獨特工藝爐管和加熱系統設，允許工藝溫度達到 1850 ℃。 此外，Activator 150 系列的產品可以實現生長石墨烯生長。通過碳化硅升華生長石墨層可以獲得高性能器件。

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CAM-H型流延機為KEKO公司面向最高端產品應用的流延機。先進的干燥系統設計使得該設備非常適合厚膜產品。安裝有眾多的溫度及空氣流量傳感器用于工藝控制。使用±10um的高精度厚度測量系統對流延厚度進行不間斷監測。全自動的流延縫隙控制可自動進行零位校準操作。流延過程在觸摸屏或外置電腦上顯示。預設的菜單系統可迅速啟動新的流延操作。

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Trymax 先進等離子灰化和蝕刻 NEO300A/NEO200A系列平臺 NEO300A系列平臺是Trymax半導體設備行業領先的NEO系列先進等離子灰化和蝕刻產品的zui新成員之一。 它是一個全自動的單室系統，可配置任何現有的Trymax NEO工藝模塊，并與直徑達300mm的基板兼容。占地面積小的NEO300A配置有單個裝載端口。

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NEO3400系列是Trymax半導體設備行業-NEO系列先進等離子灰化和蝕刻產品的zui新成員之一。 它可以滿足zui高產量，適應每個生產階段和預算。 NEO 3000系統可配置任何現有的Trymax NEO工藝模塊，并與直徑達300mm的基板兼容。小尺寸和模塊化設計可根據您的需要靈活配置。

供應商：北京亞科晨旭科技有限公司

Trymax目前擁有半自動、全自動系列設備供用戶選擇，目前已有上百臺設備安裝在世界各地，被廣泛地應用于MEMS微機電系統、微流體器件、SOI基片制造、先進封裝、化合物半導體器件、功率器件和光電顯示等領域。

供應商：廣州善準科技有限公司

善準科技等離子體表面處理儀VP-R10真空腔體石英材質，頻率13.56MHz，能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運行30分鐘，腔體溫度不高于32℃，不損傷樣品，適用于微流控芯片PDMS鍵合、ITO導電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLASMA處理。

供應商：廣州善準科技有限公司

善準科技等離子去膠機VP-RS6真空腔體不銹鋼材質，功率500W，頻率13.56MHz，能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運行3分鐘，腔體溫度不高于45℃，不損傷樣品，適用于晶圓去膠、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS鍵合、ITO導電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLASMA處理。

供應商：北京哲勤科技有限公司

2.45GHz微波等離子體源，等離子體密度大，損傷小，可以去除SU-8、離子注入、碳化的光刻膠！

供應商：廣州善準科技有限公司

VP-RS15等離子刻蝕機補充國內技術空白（真空不銹鋼腔體等離子清洗裝置），真空腔體不銹鋼材質，功率500W，頻率13.56MHz，能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運行3分鐘，腔體溫度不高于45℃，不損傷樣品，適用于晶圓去膠、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS鍵合、ITO導電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLASMA處理。