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美國 OAI 光刻機:Model  200 手動曝光機,實驗室用 ,Model 800MBA 雙面曝光機, 實驗室及小批量生產,Model  2000 全自動邊緣曝光系統,生產型Model  5000 全自動曝光機,生產型OAI 200型光刻機是一種具有成本效益的高性能掩模對準器，采用經過行業驗證的組件，使OAI成為光刻設備行業的領 導者。 200型是臺式面罩對準器，需要最小的潔凈室空間。它為研發，或有限規模，試點生產提供了經濟的替代方案。利用創新的空氣軸

供應商：QUANTUM量子科學儀器貿易（北京）有限公司

Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統，具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無掩膜直寫系統的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點。采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

供應商：香港壘為信息科技實業有限公司

Perfect Low-Cost Solution: ?   High Accuracy ?   Good Optical performance?   latest processes (e.g. UV-NIL) Addressed Markets: ?   MEMS ?   Telecommunica

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μMLA桌面無掩模光刻機 桌面型光刻機μMLA   技術參數直寫模式 I*直寫模式 II*寫入性能（光柵掃描和矢量曝光模式）最小結構尺寸 [μm]0.61最小線寬/線隙 [半寬, μm]0.81.5第二層對準大于 5 x 5 mm2 [3σ, nm]500500第二層對準大于  50 x 50 mm2&n

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I線步進式光刻機 / I-line stepper，型號：Nikon NSR-I12技術指標及功能廣泛應用于生產線，是6英寸，8英寸等主力I線生產機臺，適用于I線光刻膠的曝光，操作簡單，曝光精度準，解析力zui高可達0.35UM （350NM）

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把掩膜版上的圖形按照一定的比例縮小復制到涂布有光刻膠的晶圓上，分區域進行步進式曝光。本機臺可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圓高精度投影曝光，曝光精度可達500nm?；局笜?. RESOLUTION：0.5μm2. LENS DISTORTION：≤0.9μm3. RETICLE ALIGNMENT ACCURACY：≤0.02μm4. STEPPING ACCURACY：≤0.08μm 5. OVERLAY ACCURACY：≤0.15μm(X,Y)

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提高分辨率 25%； 更佳的貼片性能 70%； 更快的寫入速度20% 。

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大尺寸掩膜版生產工具 平行化曝光制程技術

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多種數據輸入格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL) 網絡數據傳輸 計量校準系統 人工氣候室 階段地圖校正 邊緣檢測器單元 色差校正

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SUSS蘇斯，EVG, OAI公司生產的半導體和太陽能行業用光刻機，目前得到業界的廣泛認同，該系列光刻機曝光系統的曝光燈，主要是由德國歐司朗及日本牛尾公司生產的曝光燈進行配套供應。歐司朗/牛尾曝光燈系列，具備良好的光通量，穩定的光強度以及優質的品質受到業界的青睞。

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Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統，具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無掩膜直寫系統的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點。采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

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Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統是一款真正意義上的全能機型?；陔p光子聚合技術，該系統不僅是快速成型制作的最佳機型，同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規?；a。全新Quantum X shape可以為您打印任何 2.5D 和 3D 微納結構，提供真正意義上的設計自由度。該系統可實現您各類高縱橫比結構。

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尼康光刻機 NSR-i12, NSR-1755G7,NSR-1755i7B,步進式投影光刻機，NSR 204,NSR 204B, NSR 1505 G6E.

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德國海德堡 Heidelberg 激光直寫光刻機 MLA150,德國高精密激光直寫繪圖機,非接觸式曝光,可支持高 效數位光刻與灰度光刻.

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德國海德堡 μMLA桌面無掩模光刻機

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海德堡Heidelberg 掩膜版光刻機VPG+ 200，VPG+400 大尺寸掩膜版生產工具 平行化曝光制程技術 大型光學系統上的創新與突破

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瑞典Mycronic FPS 6100多功能掩膜版光刻機，使多功能光掩模制造，具有無與倫比的靈活性。

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美國 OAI 光刻機:Model  200 手動曝光機,實驗室用 ,Model 800MBA 雙面曝光機, 實驗室及小批量生產,Model  2000 全自動邊緣曝光系統,生產型Model  5000 全自動曝光機,生產型OAI 200型光刻機是一種具有成本效益的高性能掩模對準器，采用經過行業驗證的組件，使OAI成為光刻設備行業的領 導者。 200型是臺式面罩對準器，需要最小的潔凈室空間。它為研發，或有限規模，試點生產提供了經濟的替代方案。利用創新的空氣軸

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美國 OAI 光刻機:Model  200 手動曝光機,實驗室用 ,Model 800MBA 雙面曝光機, 實驗室及小批量生產,Model  2000 全自動邊緣曝光系統,生產型Model  5000 全自動曝光機,生產型OAI 200型光刻機是一種具有成本效益的高性能掩模對準器，采用經過行業驗證的組件，使OAI成為光刻設備行業的領 導者。 200型是臺式面罩對準器，需要最小的潔凈室空間。它為研發，或有限規模，試點生產提供了經濟的替代方案。利用創新的空氣軸

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適用于分辨率不低于0.65μm的大規模集成電路工藝器件量產的G-line步進式光刻機。

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PhableR 100 紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統，但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司擁有突破性的PHABLE 曝光技術，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結果非常均勻，質量很 好；在"mask aligner"模式下，能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。

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德國高精密激光直寫繪圖機 非接觸式曝光 可支持GX數位光刻與灰度光刻

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基本灰度曝光模式 對準攝像系統 實時自動對焦 User-optimized接觸向導

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VPG 設計有可以搭載多樣化不同尺寸的承載平臺，例如：1600mm*1400mm,1100mm*1100mm,800mm*800mm. 但這些系統都安裝有氣浮裝置，可配置半自動或者全自動的上下版裝置，并且可以選擇zui高輸出功率20W的UV激光發射頭。

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科研用激光直寫系統 具有多種直寫模塊，實現不同精度直寫需求 能于結構上進行灰度曝光

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DWL 66+激光光刻系統是具經濟效益的高分辨率圖像產生器, 具有多種直寫模塊，實現不同精度直寫需求, 能于結構上進行灰度曝光

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Nikon 尼康 光刻機 NSR-4425i

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NIKON步進式投影光刻機,分辨率:0.35μm， 套刻精度:< 75nm, 十字線對準:5:1 ， 150毫米* 150毫米

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Nikon NSR 1755i7B 6英寸分步重復光刻機，可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圓高精度投影曝光，曝光精度可達500nm。

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Nikon NSR-1755G7適用于分辨率不低于0.65μm的大規模集成電路工藝器件量產的G-line步進式光刻機。

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Nikon NSR-I12廣泛應用于生產線，是6英寸，8英寸等主力I線生產機臺，適用于I線光刻膠的曝光，操作簡單，曝光精度準，解析力最高可達0.35UM （350NM）

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Nikon步進式光刻機，廣泛應用于生產線，操作簡單，曝光精度準，解析力最高可達0.35UM （350NM）

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DWL 66+激光光刻系統是具經濟效益的高分辨率圖像產生器, 具有多種直寫模塊，實現不同精度直寫需求, 能于結構上進行灰度曝光

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美國 OAI 光刻機 Model 200 型桌面掩模對準器系統，完全手工操作，輸出光譜范圍:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm線，Hg-Xe: 260nm和220nm或LED: 365nm, 395nm, 405nm

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OAI Model 212型桌面掩模對準系統, 輸出光譜范圍:Hg: G(436nm),H(405nm),I(365nm)和310nm,Hg-Xe: 260 nm和220 nm或LED:365 nm、395 nm和405 nm

供應商：深圳市藍星宇電子科技有限公司

OAI Model 800E 型掩模對準系統，各種光譜范圍選項:Hg燈:G(436nm),H(405nm)， I(365nm)和310nm線，Hg-Xe燈:260nm和220nm